M. Sugawara
Plasma Etching
Fundamentals and Applications
Gebonden Engels 1998 9780198562870Levertijd ± 11 werkdagen
Gratis verzonden
Samenvatting
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Specificaties
ISBN13:9780198562870
Taal:Engels
Bindwijze:Gebonden
Aantal pagina's:356
Uitgever:OUP OXFORD
Lezersrecensies
Wees de eerste die een lezersrecensie schrijft!
Rubrieken
- advisering
- algemeen management
- coaching en trainen
- communicatie en media
- economie
- financieel management
- inkoop en logistiek
- internet en social media
- it-management / ict
- juridisch
- leiderschap
- marketing
- mens en maatschappij
- non-profit
- ondernemen
- organisatiekunde
- personal finance
- personeelsmanagement
- persoonlijke effectiviteit
- projectmanagement
- psychologie
- reclame en verkoop
- strategisch management
- verandermanagement
- werk en loopbaan