, ,

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Paperback EN 2025 9781032386737
€ 80,43
Levertijd ongeveer 16 werkdagen
Gratis verzonden

Samenvatting

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Specificaties

ISBN13:9781032386737
Taal:EN
Bindwijze:Paperback
Aantal pagina's:354
Uitgever:Taylor & Francis Ltd

Lezersrecensies

Wees de eerste die een lezersrecensie schrijft!

Managementboek Top 100

€ 80,43
Levertijd ongeveer 16 werkdagen
Gratis verzonden

Rubrieken

    Personen

      Trefwoorden

        Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes