Tommi Kaariainen,
David Cameron,
Marja-Leena Kaariainen,
Arthur Sherman
e.a.
Atomic Layer Deposition
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Gebonden EN 2013 9781118062777Levertijd ongeveer 16 werkdagen
Gratis verzonden
Samenvatting
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.
Specificaties
ISBN13:9781118062777
Taal:EN
Bindwijze:Gebonden
Aantal pagina's:272
Uitgever:John Wiley & Sons Inc
Lezersrecensies
Wees de eerste die een lezersrecensie schrijft!
Rubrieken
- advisering
- algemeen management
- coaching en trainen
- communicatie en media
- economie
- financieel management
- inkoop en logistiek
- internet en social media
- it-management / ict
- juridisch
- leiderschap
- marketing
- mens en maatschappij
- non-profit
- ondernemen
- organisatiekunde
- personal finance
- personeelsmanagement
- persoonlijke effectiviteit
- projectmanagement
- psychologie
- reclame en verkoop
- strategisch management
- verandermanagement
- werk en loopbaan