M.R. Oliver
Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials
Gebonden Engels 2004 2004e druk 9783540431817Levertijd ± 9 werkdagen
Gratis verzonden
Samenvatting
This book contains a comprehensive review of CMP (Chemical-Mechanical Planarization) technology, one of the most exciting areas in the field of semiconductor technology. It contains detailed discussions of all aspects of the technology, for both dielectrics and metals. The state of polishing models and their relation to experimental results are covered. Polishing tools and consumables are also covered. The leading edge issues of damascene and new dielectrics as well as slurryless technology are discussed.
Specificaties
ISBN13:9783540431817
Taal:Engels
Bindwijze:Gebonden
Aantal pagina's:428
Uitgever:Springer Berlin Heidelberg
Druk:2004
Thema:
Lezersrecensies
Wees de eerste die een lezersrecensie schrijft!
Rubrieken
- advisering
- algemeen management
- coaching en trainen
- communicatie en media
- economie
- financieel management
- inkoop en logistiek
- internet en social media
- it-management / ict
- juridisch
- leiderschap
- marketing
- mens en maatschappij
- non-profit
- ondernemen
- organisatiekunde
- personal finance
- personeelsmanagement
- persoonlijke effectiviteit
- projectmanagement
- psychologie
- reclame en verkoop
- strategisch management
- verandermanagement
- werk en loopbaan